• 粉体除去機器

独自開発による粉体除去技術により、半導体プロセスで発生する副生成物（粉体）の除去を高効率で行えます。
粉体デポ後、設定された時間、圧力損失に達すると自動的に粉体をクリーニングし、圧力損失を正常に復帰させる機能を搭載しており、粉体閉塞によるトラブルを未然に防ぐ効果を期待できます。
また、副生成物の発生が少ないドライエッチャー・イオン注入装置などにはECO-PAC（フィルターエレメント）をご用意しております。廉価版であり、現在ご使用の他メーカーのハウジングにも互換性があります。
設置することにより、後段の除害装置の負荷を劇的に軽減することができます。